Produkty

Dom > Produkty > Ceramika Al2O3 > High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Kategorie

Metalizowana ceramika

(10)

Kontakty

Kontakty: Miss. Zhu

Tel.: 17351500728

Skontaktuj się teraz

Wyślij nam wiadomość.

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Name: High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-HP02
Price: 105.00 USD
Availability: InStock

Szczegóły produktu

Miejsce pochodzenia: Jiangsu, Chiny

Nazwa handlowa: Wuxi Special Ceramic

Orzecznictwo: ISO 9001:2015

Numer modelu: WS-AL-HP02

Warunki płatności i wysyłki

Minimalne zamówienie: 10 sztuk

Cena: US$10~US$200/Piece

Szczegóły pakowania: Kartony eksportowe z wkładkami piankowymi, paletyzowane do transportu morskiego lub lotniczego

Czas dostawy: 15-30 dni po potwierdzeniu

Zasady płatności: T/T, akredytywa, Western Union

Możliwość Supply: 100 000 sztuk miesięcznie

Najlepszą cenę

Szczegóły produktu

Opis produktu

Podkreślić: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                High Purity Alumina Susceptor, Semiconductor Grade Ceramic Plate, Wafer Processing Equipment Part
                              

Treść glinu:	99,5% Al2O3	Stopień czystości:	Stopień półprzewodnika
Gęstość:	3,92 g/cm3	Chropowatość powierzchni:	Ra 0,1-0,4 µm
Płaskość:	0,02 mm	Kolor:	kość słoniowa
Aplikacja:	sprzęt do obróbki płytek	maksymalna temperatura użytkowania:	1700 stopni C
Funkcja:	Niski poziom zanieczyszczenia jonów

Treść glinu:	99,5% Al2O3
Stopień czystości:	Stopień półprzewodnika
Gęstość:	3,92 g/cm3
Chropowatość powierzchni:	Ra 0,1-0,4 µm
Płaskość:	0,02 mm
Kolor:	kość słoniowa
Aplikacja:	sprzęt do obróbki płytek
maksymalna temperatura użytkowania:	1700 stopni C
Funkcja:	Niski poziom zanieczyszczenia jonów

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Semiconductor wafer processing demands materials that neither shed particles nor leach metallic contamination into the process environment. Our High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates are manufactured from 99.5% alpha alumina with tightly controlled trace element levels, then fired in a clean production line to produce a fully dense, pore-free body that stays chemically silent even under plasma and high bias conditions. Each plate is diamond ground and lapped to a flatness

Tags:

Ceramika Al2O3

Ceramika steatytowa

Ceramika z azotku krzemu

Ceramika cyrkonowa

ceramiczna łódź parowa

Ceramika z węglika krzemu

Ceramika kordierytowa

Ceramika mulitowa

Podłoże ceramiczne

Ceramika z azotku boru

Wał ceramiczny

Dysza ceramiczna

Ceramika z tlenku cyrkonu

Ceramika Macor

ceramika półprzewodnikowa

Ceramiczne ostrze z cyrkonu

Proszek Y2O3

Ceramika z azotku glinu

Metalizowana ceramika

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

High Purity Alumina Susceptor

Semiconductor Grade Ceramic Plate

Wafer Processing Equipment Part

Płyta ceramiczna z tlenku glinu,

płyta ceramiczna Al2o3,

Ceramika Al2O3

Ceramika steatytowa

Ceramika z azotku krzemu

Ceramika cyrkonowa

ceramiczna łódź parowa

Ceramika z węglika krzemu

Ceramika kordierytowa